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Tantaliu Sputtering Target - Disc

Descrizione breve:

U scopu di sputtering di tantalu hè principalmente appiicatu in l'industria di i semiconduttori è l'industria di i rivestimenti ottici.Producemu diverse specificazioni di miri di sputtering di tantalu nantu à a dumanda di i clienti da l'industria di i semiconduttori è l'industria ottica per mezu di u metudu di fusione di furnace EB in vacuum.Attenti à u prucessu di laminazione unicu, attraversu un trattamentu cumplicatu è una temperatura è u tempu di ricottura precisa, producemu diverse dimensioni di i miri di sputtering di tantalu cum'è obiettivi di discu, obiettivi rettangulari è obiettivi rotativi.Inoltre, guarantimu a purità di tantalu hè trà 99,95% à 99,99% o più altu;u granu granu hè sottu 100um, flatness hè sottu 0.2mm è a Superficia


Detail di u produttu

Tags di u produttu

Descrizzione

U scopu di sputtering di tantalu hè principalmente appiicatu in l'industria di i semiconduttori è l'industria di i rivestimenti ottici.Producemu diverse specificazioni di miri di sputtering di tantalu nantu à a dumanda di i clienti da l'industria di i semiconduttori è l'industria ottica per mezu di u metudu di fusione di furnace EB in vacuum.Attenti à u prucessu di laminazione unicu, attraversu un trattamentu cumplicatu è una temperatura è u tempu di ricottura precisa, producemu diverse dimensioni di i miri di sputtering di tantalu cum'è obiettivi di discu, obiettivi rettangulari è obiettivi rotativi.Inoltre, guarantimu a purità di tantalu hè trà 99,95% à 99,99% o più altu;u granu di granu hè sottu 100um, flatness hè sottu 0.2mm è a rugosità Superficie hè sottu Ra.1.6μm.A dimensione pò esse adattata da i bisogni di i clienti.Cuntrollemu a qualità di i nostri prudutti attraversu a fonte di materia prima finu à tutta a linea di produzzione è infine consegnamu à i nostri clienti per assicurà chì cumprà i nostri prudutti cù a stessa qualità stabile è ogni lottu.

Facemu u nostru megliu per innuvà e nostre tecniche, rinfurzà a qualità di u produttu, aumentà u tassu d'utilizazione di u produttu, sminuì i costi, migliurà u nostru serviziu per furnisce i nostri clienti cù prudutti di qualità superiore, ma i costi di compra più bassi.Una volta chì ci sceglite, uttenerete i nostri prudutti stabili di alta qualità, un prezzu più competitivu cà l'altri fornitori è i nostri servizii puntuali è altamente efficienti.

Producemu obiettivi R05200, R05400 chì rispondenu à u standard ASTM B708 ​​è pudemu fà miri cum'è i vostri disegni furniti.Approfittendu di i nostri lingotti di tantalu di alta qualità, equipaggiu avanzatu, tecnulugia innovativa, squadra prufessiunale, avemu adattatu i vostri obiettivi di sputtering richiesti.Pudete dìci tutti i vostri bisogni è avemu dedicatu in a fabricazione nantu à i vostri bisogni.

Tipu è taglia:

ASTM B708 ​​Standard Tantaliu Sputtering Target, 99,95% 3N5 - 99,99% 4N Purità, Disc Target

Composizioni chimiche:

Analisi tipica: Ta 99,95% 3N5 - 99,99% (4N)

Impurezze metalliche, ppm max per peso

Elementu Al Au Ag Bi B Ca Cl Cd Co Cr Cu Fe
Cuntinutu 0.2 1.0 1.0 1.0 0.1 0.1 1.0 1.0 0,05 0,25 0,75 0.4
Elementu Ga Ge Hf K Li Mg Na Mo Mn Nb Ni P
Cuntinutu 1.0 1.0 1.0 0,05 0.1 0.1 0.1 5.0 0.1 75 0,25 1.0
Elementu Pb S Si Sn Th Ti V W Zn Zr Y U
Cuntinutu 1.0 0.2 0.2 0.1 0.0 1.0 0.2 70,0 1.0 0.2 1.0 0,005

Impurezze non metalliche, ppm max per peso

Elementu N H O C
Cuntinutu 100 15 150 100

Balance: tantalu

Grandezza di granu: Taglia tipica <100μm Grandezza di granu

Altre dimensioni di granu dispunibili nantu à dumanda

Planitude: ≤ 0,2 mm

Rugosità superficiale: < Ra 1,6 μm

Superficie: Pulitu

Applicazioni

Materiali di rivestimentu per semiconduttori, ottiche


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